Carmanhaas šķiedru griešanas optiskie komponenti tiek izmantoti dažādu veidu šķiedru lāzergriešanas galviņās, pārraidot un fokusējot no šķiedras izvadīto staru, lai sasniegtu loksnes griešanas mērķi.
(1) Importēts īpaši zemas absorbcijas kvarca materiāls
(2) Virsmas precizitāte: λ/5
(3) Enerģijas patēriņš: līdz 15000 W
(4) Īpaši zemas absorbcijas pārklājums, absorbcijas ātrums <20 ppm, ilgs kalpošanas laiks
(5) Asfēriskas virsmas apdares precizitāte līdz 0,2 μm
| Specifikācijas | |
| Substrāta materiāls | Kausētais silīcija dioksīds |
| Izmēru pielaide | +0,000”–0,005” |
| Biezuma pielaide | ±0,005 collas |
| Sfēras spēks | 3 bārkstis |
| Sfēras nelīdzenums | 1 bārkstis |
| Virsmas kvalitāte | 10-5 |
| Caurspīdīga atvere (pulēta) | ≥90 % |
| Efektīvā fokusa attāluma (EFL) pielaide | < 1,0% |
| Specifikācijas | |
| Standarta abas puses AR pārklājums @ 1070nm | |
| Kopējā absorbcija | < 30 ppm |
| Caurlaidība | >99,9% |
|
| |
| Īpaši zema absorbcijas AR/AR pārklājums @ 1070 nm | |
| Kopējā absorbcija | < 10 ppm |
| Caurlaidība | >99,9% |
| Diametrs (mm) | Fokusa attālums (mm) | Pārklājums |
| 28 | 75 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 28 | 100 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 30 | 75 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 30 | 100 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| Diametrs (mm) | Fokusa attālums (mm) | Pārklājums |
| 28 | 125 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 30 | 125 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 30 | 150 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
| 30 | 200 | AR/AR pie 1030–1090 nm |
